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Nanoscribe推出双光子3D打印机 可制造200微米光学元件

文章来源: 南极熊,中国3D打印网       发布时间:2019-06-25

Nanoscribe是一家德国双光子增材制造系统制造商,2019年6月25日,记者从外媒获悉,该公司近日推出了一款新型的机器Quantum X。该最新系统使用双光子光刻技术制造纳米尺寸的折射和衍射微光学元件,其尺寸可小至200微米。

Nanoscribe推出双光子3D打印机 可制造200微米光学元件

根据Nanoscribe的联合创始人兼CSO Michael Thiel博士的说法,“Beer's定律对当今的无掩模光刻设备施加了强大的限制, Quantum X采用双光子灰度光刻技术,克服了这些限制,提供了前所未有的设计自由度和易用性, 我们的客户正在微加工的最前沿工作。“


Nanoscribe成立于卡尔斯鲁厄理工学院,现在在上海设有子公司,在美国设有办事处。该公司在财务和技术上获得了蔡司的大力支持,蔡司是德国历史最悠久,规模最大的光学系统制造商之一。


纳米标记系统基于双光子吸收,这是一种分子被激发到更高能态的过程。为了使用双光子工艺制造3D物体,使用含有单体和双光子活性光引发剂的凝胶作为原料。将激光照射到光敏材料上以形成纳米尺寸的3D打印物体,其中吸收的光的强度最高。


Photonic Professional GT是Nanoscribe此前推出的一款产品,在科学研究中得到了广泛的应用,并在哈佛大学纳米系统中心,加州理工学院,伦敦帝国理工学院,苏黎世联邦理工大学和庆应义塾大学使用。

Nanoscribe推出双光子3D打印机 可制造200微米光学元件

最近,除双光子机器外,Nanoscribe还生产负性树脂,称为IP光树脂。


Quantum X系统是在德国慕尼黑LASER World of Photonics 2019展会上发布的,专门用于制造衍射光学元件(DOE)。 这些微型光学器件用于材料的激光加工领域,因为DOE可以精确地控制激光的路径和“形状”。 微光学还用于激光雷达扫描和基于激光的医学治疗。


制造DOE的最常见方法之一是基于集成电路的制造过程,其可能需要多达十二个步骤。 但是,使用Quantum X机器,DOE可以直接从CAD直接打印。 根据Nanoscribe的说法,Quantum X将是微光学,小批量生产和研发的快速原型设计的理想解决方案。


纳米3D打印


Nanoscribe成立于卡尔斯鲁厄理工学院,现在在上海设有子公司,在美国设有办事处。该公司在德国历史最悠久,规模最大的光学系统制造商之一蔡司财务的支持。纳米标记系统基于双光子吸收,这是一种分子被激发到更高能态的过程。为了使用双光子工艺制造3D物体,使用含有单体和双光子活性光引发剂的凝胶作为原料。将激光照射到光敏材料上以形成纳米尺寸的3D打印物体,其中吸收的光的强度最高。


Nanoscribe的Photonic Professional GT在研究中得到了广泛的应用,并在哈佛大学纳米系统中心,加州理工学院,伦敦帝国理工学院,苏黎世联邦理工大学和庆应义塾大学使用。最近,据报道,Nanoscribe还加入了MiLiQuant项目,并将利用其在光子技术方面的专业知识将量子技术推向工业水平。除双光子机器外,Nanoscribe还生产负性树脂,称为IP光树脂。


3D打印衍射光学


Quantum X系统是在慕尼黑2019年的LASER光子世界(A3.325展位)上推出的,专门用于制造衍射光学元件(DOE)。这些微型光学器件用于材料的激光加工领域,因为DOE可以精确地控制激光的路径和“形状”。微光学还用于激光雷达扫描和基于激光的医学治疗。制造DOE的最常见方法之一是基于集成电路的制造过程,其可能需要多达十二个步骤。但是,使用Quantum X机器,DOE可以直接从CAD直接打印。Quantum X将是微光学,小批量生产和研发的快速原型设计的理想解决方案。

Nanoscribe推出双光子3D打印机 可制造200微米光学元件

在Quantum X机器上打印的微透镜阵列3D的SME图像。图像通过Nanoscribe。


技术规格


印刷技术双光子灰度光刻(2GL)


最小XY尺寸160  -  200 nm(取决于使用的光致抗蚀剂)


XY分辨率400-500 nm(取决于所用的光敏素)


最佳垂直步长10 nm


扫描速度≤250mm / s


面积印刷速度为3mm2/ h,适用于衍射光学元件

Nanoscribe推出双光子3D打印机 可制造200微米光学元件

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